KAIJO楷捷/超声波清洗机/半导体行业用/C-98S-IS-71  
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超声波清洗主要原理:  
1.空化作用  
2.加速度  
3.物理化学的反应促进作用  
超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、HDD(媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、金属零件  
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超声波清洗主要原理:  
1.空化作用  
2.加速度  
3.物理化学的反应促进作用  
超声波清洗应用领域:半导体晶圆、硅晶片、复合晶片、太阳能电池、HDD(媒体、基板和组件)、磁头、平板显示、玻璃、蓝宝石、水晶印刷电路板、膜、陶瓷、橡胶、树脂模塑制品、汽车、电子、医疗、加工、精密零件、冲压零件、模具、金属零件
https://www.chem17.com/st568315/product_37605120.html 
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